武汉大学科研公共服务条件平台化学院分平台高精密双面光刻机（G-33D4）已经安装调试完毕，即日起对校内开放试运行，欢迎校内师生预约使用！
一、基本参数
型号：G-33D4
厂家：成都鑫南光机械设备有限公司
曝光类型：双面对准单面曝光
曝光面积：≥110×110 mm
曝光强度：0～40 mw/cm2可调
曝光强度均匀性：≥97%；紫外光束角：≤3°
紫外光源：LED，紫外光中心波长：365 nm-460 nm
曝光方式：密着曝光，可实现硬接触、软接触和微分离曝光；底吹曝光
曝光分辨率：≤1 um
显微系统：正面对准采用双视场CCD立式显微镜，反面对准使用双视场CCD卧式显微镜，正分面CCD像素为200万倍
二、功能特色
高精密双面光刻机具有超高的对准精度，能将上下两面的图案精准对齐，误差控制在极小范围内，确保产品的一致性与可靠性。具有高分辨率成像系统，可清晰地将精细电路图案或微观结构投射到晶圆等基片上，实现微小尺寸的加工。具备先进的曝光技术，能稳定且均匀地进行曝光操作，适应不同材料与工艺需求。配备智能自动化控制系统，可精确调控各项参数，减少人为因素导致的误差。
三、应用领域
本设备主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产。G-33D4能够精准地在晶圆两面加工电路图案，助力生产出高性能、高密度的芯片，推动电子设备的小型化与智能化。还能为微型传感器、执行器等精细部件的双面加工提供保障，在众多关键领域均有着极为重要的应用。
预约请登录：http://gxpt.whu.edu.cn
地点：武汉大学化学与分子科学学院化南S104
联系人：郭老师 13477017056 光刻机QQ群：662417855
